MNC 2023 技術セミナー「ALD技術セミナー」

MNC 2023 技術セミナー「ALD技術セミナー」
日程:2023年11月14日(火) 13:00-17:20
場所:京王プラザホテル札幌2F Room B
https://www.keioplaza-sapporo.co.jp/location/
参加費:技術セミナーは事前のお申込みで定員160名を超えておりますので、当日新たに受付は行いませんので何卒ご了承ください。
開会の挨拶
廣瀬 文彦 (山形大学　MNC 2023 論文委員会 セクションヘッド）
13:00-13:45「Initial interface reactions of atomic layer deposition」
Jiyoung Kim (The University of Texas at Dallas)

Short Biography
Jiyoung Kim is a professor of Materials Science and Engineering and affiliated at Depts. of Electrical and Mechanical Engineering at the University of Texas at Dallas since 2005. He received the B.S. (1986) and the M.S. (1988) at Seoul National University, and the Ph.D. (1994) at the University of Texas at Austin. He worked as an integration engineer at Texas Instrument, Inc (Dallas, TX) from 1994 to 1996. From 1996 to 2005 he was an assistant/associate professor at Kookmin University, (Seoul, Korea). He is an author or coauthor of more than 400 peer reviewed journal and proceeding papers. He has served various conference/symposium chairs including 2014 AVS-ALD conference. His research interests are in the area of future semiconductor technology particularly focusing on implementation of advanced ALD process, characterization and its applications for logic, memory and analog/power devices.
13:45-14:20「ALPにおけるケミカルの設計」
安原　重雄 (ジャパン・アドバンスト・ケミカルズ )

略歴
1994年立命館大学理工学部応用化学科修士卒後トリケミカル研究所入社。
1998年トリケミカル研究所米国へ転勤し　AMAT用TDMATの認定やインテル用Low-k材料DMDMOSのHVM認定・供給に従事し2004年帰国退社。2004年よりジャパン・アドバンスト・ケミカルズで技術開発に携わり2006年から2010年には東北大学流体科学研究所にて中性粒子ビームを用いた低誘電率層間絶縁膜に関する研究を行い博士（工学）を取得。
14:20-14:55「ReaxFF MD Simulations for Analysis of Thin-Film Growth Mechanisms in Boron Nitride ALD Processes
（反応性力場分子動力学法による窒化ホウ素ALDプロセスにおける薄膜成長機構の解析） 」
徳増　崇 (東北大学流体科学研究所)　

略歴
Takashi Tokumasu is a professor of Institute of Fluid Science, Tohoku University. He has his expertise in analyzing nanoscale flow phenomena. Especially, he is focusing on the effect of quantum characteristics of molecules on macroscopic flow and thermodynamic phenomena. Moreover, he applies these techniques and knowledge to the development of materials for next generation power sources (fuel cells, batteries) and semiconductor fabrication processes. He performs large scale molecular dynamics simulations to analyze such nanoscale flow phenomena.
14:55-15:15休憩
15:15-15:50「高純度オゾンおよびO2プラズマ酸化ALDによる高ARトレンチへの被覆性」
萩原　崇之 (明電ナノプロセス・イノベーション)

略歴
2014年　群馬大学大学院工学研究科生産システム工学専攻 修士課程修了。
2014年～　株式会社明電舎入社。
2020年～　明電ナノプロセス・イノベーション株式会社　勤務。
技師。ピュアオゾンを用いた成膜プロセス開発に従事。
15:50-16:25「Fundamentals and Applications of Atomic Layer Etching（原子層エッチングの基礎と応用）」
唐橋　一浩 (大阪大学)　

略歴
１９８７年筑波大学大学院理工学研究科修士課程終了，工学博士（１９９６）
１９８７年年富士通研究所　２０１５年大阪大学工学研究科 特任教授
原子・分子線およびイオンビームを用いたプラズマに含まれる活性種と表面との相互作用の研究に従事
16:25-17:00「A Proposal of Material Design for Atomic Layer Process」
山口 欣秀 (日立製作所)

略歴
1991年京都大学工学研究科博士課程単位取得認定退学（合成化学）。電気化学的変換を活用した生理活性物質合成反応の研究で京都大学博士（工学）。
日立製作所に入社後は、配線基板（フォトリソ、めっき）、半導体パッケージ（WLCSP）、表面実装・マイクロバンプ接合、半導体エッチング（ウェット、ドライ）等の各領域において表面工学的知見を活用した多種多様な材料・プロセスの研究開発に従事。現在の主な研究テーマは原子層エッチング。
17:00-17:10「北大ALD装置による成膜事例の紹介」
松尾　保孝 (北海道大学電子科学研究所)　

略歴
2001年　北海道大学工学研究科博士課程単位取得退学。12月博士（工学）。
2018年　北海道大学電子科学研究所教授
表面微細加工による光機能デバイスの開発や界面科学の研究に従事。
2010年より微細加工に関する研究支援業務に関わり、現在は文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）事業において北海道大学実施責任者。
17:10-17:20「産総研NPFのALD実験環境　―XPS付きALD装置の紹介を中心に―」
有本　宏 (産総研ナノプロセシング施設)　
17:40-19:40MNC 2023 Get Together Party