第25回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議(MNC 2012)
2012年10月30日-11月2日 神戸メリケンパークオリエンタルホテル



第25回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議(MNC 2012)
2012年10月30日-11月2日 
神戸メリケンパークオリエンタルホテル


MNC2012 技術セミナー「Directed Self Assembly」

日程:2012年10月30日(火)

場所:神戸メリケンパークオリエンタルホテル

オーガナイザーズ:
吉田 博史(日立)
松井 真二(兵庫県立大)


講演言語:日本語但し、Paul F. Nealey(Univ. of Chicago)は英語。

参加費:MNC 参加者は無料、セミナーのみは3,000円

参加申込方法:
定員に達しましたら、受付終了とさせて頂きますので、事前に下記の参加申込みサイトから、お申込ください。
https://mice.jtbgmt.com/mnc2012/
「Entry」を押して頂き、次の画面でプライバシーポリシーに同意して頂きます。
次の画面で、ご登録者の情報(Personal Data)の入力をお願い致します。参加登録(Registration)を開いて頂き、
セミナーのみにご参加頂く場合は、NLY TECH:Technical Seminar on Octo. 30 in Japanese EXCEPT MNC 2012 Participants and Student)のI will attend(JPY3,000)をチェックして頂き、次の画面でお支払い方法をご入力してください。

プログラム案
13:10-13:15  
開会の挨拶 MNC 2012実行委員長 藤田 淳一(筑波大学)

13:15-14:05  高分子ブロック共重合体と自己組織化の基本(仮) 
長谷川 博一(京都大学)


14:05-14:55  高分子ブロック共重合体のグラフォエピタキシ制御(仮)
山口 徹(NTT)


14:55-15:10 休憩

15:10-16:40   高分子ブロック共重合体のケミエピタキシ制御(仮)
Paul F.Nealey (Univ. of Chicago)


16:40-17:30 高分子ブロック共重合体を用いた半導体リソグラフィ
東 司(東芝)


17:30-17:35   閉会の挨拶 MNC 2012実行委員 
セミナーオーガナイザー 吉田 博史(日立)


17:40-19:40 Get Together Party






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