MNC 2011技術セミナー 「最新のナノ評価技術」
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MNC 国際会議では、最新の技術やトピックスに関するセミナーを毎回開催しています。今回のセミナーは、マイクロ・ナノ技術の研究を支える最新のナノ評価技術について、研究・開発の最先端に居られる講師の方から講義をいただきます。技術の基本的な原理から応用例に至る幅広いお話をいただく予定です。主な対象は学生から若手研究者を念頭に置いて企画しましたが、経験がご豊富な研究・開発者の方にも十分ご参考にいただける内容になると考えております。また、皆様の理解がより一層進むよう通常の講演に比べ、講義と質疑応答の時間を長く取っております。皆様のご聴講をお待ちしております。
日程：2011年10月24日 （月） 13:30-16:50
場所：京都全日空ホテル2F 朱雀の間
参加費：MNC 2011参加者無料
セミナーのみ3,000円
講演言語：日本語
オーガナイザー：
MNC 2011実行委員：藤田 静雄（京都大学）
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プログラム
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| 13:30-13:35 |
挨 拶
藤田 静雄（MNC 2011実行委員 京都大）
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| 13:35-14:20 |
分光エリプソメトリーを用いたナノマテリアルの評価
森山 匠（株式会社 堀場製作所）
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| 14:20-15:05 |
SEM、TEM 解析のための最新試料作製法
鈴木 俊明（日本電子株式会社）
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| 15:05-15:20 |
休憩
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| 15:20-16:05 |
レーザ顕微鏡の原理とナノ評価への応用
東 始（株式会社 キーエンス）
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| 16:05-16:50 |
プローブ顕微鏡を用いた最新のナノ表面・界面物性評価
山田 啓文（京都大）
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17:00-19:00 |
MNC 2011 Get Together Party(セミナー参加者無料）
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